ミタニマイクロニクス株式会社

ミタニマイクロニクスは、「フォトリソグラフィ」[※１] 用の原版「フォトマスク」を通じ、次世代のアプリケーションを支える各種電子部品、半導体を中心とする様々なマイクロデバイス（半導体パッケージ、パワーデバイス等 [※2] ）、各種基板（多層、部品内蔵、BUMP等）、表示体（液晶、有機EL、FPD、タッチパネル等）など、様々な製品の生産用としてマスク製造に関わり続け、創業以来、約半世紀にわたり、より高精度、高精細な製品供給を心がけてまいりました。

ミタニマイクロニクスがご提供するフォトマスク製品として、

の3タイプをご用意しています。マスクを露光用、測定用、各種製造装置の位置確認用キャリブレーションマスク [※3] としてご提供いたします。

• ※1　微細加工技術のひとつ。フォトマスクを原版とし、感光性樹脂を露光、現像、エッチング加工によって主に電子回路パターンを形成する技術
• ※2　水晶デバイス、MEMS製品、LED製品、電子ペーパー、タッチパネル
• ※3　「キャリブレーション」とは、測定の調整、装置の調整

描画装置対応表

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ミタニマイクロニクスは、描画データの作成からパターン描画、最終検品まで５つの工程を経て、マスク製造を行います。各工程ともに熟練した当社専門スタッフが担当。最新設備の性能を活かす技術とノウハウによって、お客様の仕様を満たすフォトマスク製品を作り出します。

お客様からいただく図面またはデータを元に、フォトマスクのデータを作製・編集いたします。
LSIやPWB、FPD分野などで業界標準形式をサポートしているほか、ベクトルデータやビットマップデータの各種ファイル形式にもご対応できる場合がありますので、ご相談ください。

対応可能なファイル形式

お客様からご支給いただいたデータをCADへ読み込み、図形処理や白黒変換処理、描画データの出力 ―― など８段階のプロセスを経てマスクの描画に入ります。

CADデータ処理手順について

レーザー描画機を使い、マスク原版を描画します。レーザー描画は、清浄度レベルクラス100からクラス10,000に準拠したクリーンルームにおいて、経験豊富なベテラン技術者によって作業が行われます。

クリーンルーム（クラス100、クラス1,000、クラス10,000）

温度22℃±1℃　湿度50%　RH±10%

レジスト膜現像処理、エッチングにより、描画部クロム膜を除去します。

マスク製造の最終工程がマスク検査です。当社では測定機用プログラムを作成し、自動検査装置によってマスクの外観検査を行います。自動検査装置での信頼性あるマスク外観検査を採用。
検出方法は、「DRC（デザインルールチェック）」「データ比較」「パターン比較」の３つで、検出最小欠陥は１μmの精度を誇ります。

マスク測定・検査表作成の流れ